隨著我國高新技術的快速發展，計算機工業對大規模集成電路、液晶顯示器的需求大量增加；隨著新型能源的發展，我國大力開拓了多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的生產；此外，新型電光源、光電半導體器件（GaAs、InP、AlGaAs）、光纖通訊器件也獲得迅猛發展，在上述高新產品的生產中，都需要大量高純氣體，以制造出性能可靠的各種器件。

用途一：大規模集成電路

化學氣相沉淀：SiH4，NH3，O2，N2O，TEOS（四乙氧基硅）

化學刻蝕：CF4，SF6，NF3，Cl2，CCl，BCl3，KrF，ArF，HBr，HCl

化學摻雜：BF3，B2H6，PH3，AsH3

用途二：液晶屏

化學氣相沉淀：SiH4，SiNx

化學刻蝕：SF6，HCl，Cl2

用途三：太陽能電池

化學氣相沉淀：SiH4，NH3，NF3

擴散、刻蝕：POCl3，O2，CF4

用途四：光電半導體

化學氣相沉淀：AsH3，PH3，NH3，N2，H2

化學刻蝕：BCl3，Cl2

用途五：光導纖維

化學氣相沉淀：SiH4，SiCl4，D2，GeCl4

化學刻蝕：CF4，KrF，ArF，Cl2，SF6